文献：热退火与基底功能化相结合驱动嵌段共聚物圆柱体的长程有序化

链接：https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/nn305725q

作者：佘明轩†罗廷雅†何荣明†‡*

节选：

本研究提出了一种新方法，用于在具有功能化 SiO2 表面的 Si 晶片上由自组装聚苯乙烯-嵌段-聚（l-丙交酯）（PS-PLLA）形成明确纳米结构薄膜。使用功能化基底可以在 PS-PLLA 薄膜中形成大型、有序、垂直的 PLLA 圆柱体。与无规共聚物相比，通过用羟基封端的 PS（PS-OH）对基底进行功能化，然后用羟基封端的 PLLA（PLLA-OH）对基底进行功能化，可以形成 PS 和 PLLA 嵌段的中性基底。使用这种两步功能化可以大大减轻 PS-OH 和 PLLA-OH 的异质接枝。因此，可以通过控制接枝的 PS-OH 与 PLLA-OH 的比例来控制 PLLA 圆柱体在功能化 SiO2 上的取向，从而微调表面特性。然而，中性基底驱动的取向却出奇地有限，因为取向圆柱的有效长度小于畴间间距的两倍。高温热退火可以产生中性空气表面，形成距离空气表面亚微米的垂直PLLA圆柱体。因此，中性基底可用于在高温热处理薄膜中制备真正跨膜的垂直圆柱体。此外，通过进一步提高退火温度，可以对垂直圆柱体进行横向排序。能够在具有有序纹理和亚微米厚度的薄膜中制备这些跨膜的垂直圆柱体，为其在纳米技术中的应用开辟了可能性。

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