产品名称：机械剥离氧化铝基底二硒化钼，CAS:1317-33-5
中文名： 机械剥离氧化铝基底二硒化钼
英文名： Mechanically Exfoliated Molybdenum Diselenide (MoSe₂) on Al₂O₃ Substrate
一、基本描述
机械剥离氧化铝基底二硒化钼是一种二维过渡金属二硒化物（TMDs），通过机械剥离高纯MoSe₂晶体获取单层或少层纳米片，并将其转移至氧化铝基底形成均匀薄膜。MoSe₂具有层状结构、可调带隙以及优良光学和电学性能，广泛应用于光电子器件、光伏器件、场效应晶体管和二维材料基础物性研究。氧化铝基底提供高热导、平整界面和绝缘性能，为纳米片的稳定转移和器件制造提供可靠支撑。
二、物理化学性质、结构特性及应用
MoSe₂纳米片呈深灰色或黑色，单层厚度约0.7 nm，晶体结构为六方2H相，层间距约0.65 nm。物理性质包括直接带隙约1.1–1.6 eV（单层）、高载流子迁移率和强光吸收能力。化学性质上对空气相对稳定，但在高温或强氧化条件下易表面氧化。应用方面，该材料可用于场效应晶体管、光电探测器、光伏器件、柔性电子器件及光催化材料研究。氧化铝基底保证了纳米片平整、均匀，便于高精度器件加工和性能测试。
三、合成路线
机械剥离MoSe₂在氧化铝基底上通常采用胶带或聚二甲基硅氧烷（PDMS）辅助剥离法。将高纯MoSe₂晶体与Al₂O₃基底接触，通过轻微机械压力或剪切，将单层或少层片层转移至基底表面。剥离后通过退火或溶剂清洗去除辅助材料，获得高结晶度、低缺陷的MoSe₂纳米片，可直接用于器件制备及物性研究。

厂家：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
温馨提醒：产品仅供科研，不能用于人体实验!

关于我们：
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